设备厂家： 

EVG 

型号： 

EVG610

仪器说明：

EVG610 是一款非常灵活的、适用于研发和小批量试产的对准系统，可处理最大8英寸之内的各种规格晶片。EVG610 支持各种标准的光刻工艺， 例如：真空、软、硬接触和接近曝光；也支持其他特殊的应用，如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械 系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域， 涵盖了微纳电子领域微米或亚 微米级线条器件的图形光刻应用。