设备厂家：

功率薄膜磁控溅射系统

型号：

DM500

仪器说明：

功率薄膜磁控溅射系统通过电离气体激发高能粒子轰击靶材，使靶材原子溅射沉积在基片表面形成致密薄膜。该系统广泛应用于微电子、光学镀膜及功能材料领域，具有成膜均匀性强、附着力高且可精确调控薄膜成分与厚度的特点。