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SiC晶圆CMP工艺技术的数字孪生与智能优化

发布日期:2025-05-21 阅读次数:

一、所属领域

所属领域:半导体制造/电子

技术领域:先进制造

图1.(a)晶圆CMP压力仿真折线数据图,(b)晶圆CMP摩擦应力仿真数据折线图,(c)通过工艺优化仿真后减薄的碳化硅晶圆,

(d)晶圆表面压力与摩擦应力数据对比图,(e)晶圆CMP过程总变形仿真分析测试结果